腐蝕損壞速率在很大程度上取決于試驗(yàn)樣品表面的含氧鹽溶液和試驗(yàn)樣品的溫度以及環(huán)境的溫度和濕度。

在試驗(yàn)期間，噴霧時(shí)間足以使試驗(yàn)樣品充分潤(rùn)濕，而且噴霧還要在試驗(yàn)樣品濕熱條件下貯存一段時(shí)間后重復(fù)進(jìn)行因此這種試驗(yàn)方法在某種程度上是模擬天然鹽霧環(huán)境的。

試驗(yàn)樣品在噴霧過程中不通電；在濕熱貯存期間，通常也不通電本標(biāo)準(zhǔn)等效采用標(biāo)準(zhǔn)IEC 68—2—52（1984）《試驗(yàn)Kb：交變鹽霧試驗(yàn)方法》。

鹽霧試驗(yàn)箱（室）必須用耐鹽霧腐蝕和不影響試驗(yàn)結(jié)果的材料制造。鹽霧試驗(yàn)箱（室）的結(jié)構(gòu)，包括產(chǎn)生鹽霧的方式應(yīng)能達(dá)到下述要求：

a.鹽霧試驗(yàn)箱（室）的條件應(yīng)達(dá)到規(guī)定的范圍。

b.鹽霧試驗(yàn)箱（室）應(yīng)有足夠大的容積，且保持均勻恒定的試驗(yàn)條件（不受湍流的影響），試驗(yàn)條件不因放入試驗(yàn)樣品而受影響。

c.試驗(yàn)期間鹽霧不得直接噴射到試驗(yàn)樣品上。

d.鹽霧試驗(yàn)箱（室）墻壁或其他部位積聚的液滴不得滴在試驗(yàn)樣品上。

e.為防止箱內(nèi)壓力升高并保持鹽霧分布均勻，鹽霧試驗(yàn)箱（室）內(nèi)應(yīng)有適當(dāng)?shù)呐艢饪祝?yīng)防止排氣孔在箱（室）內(nèi)壓力升高并保持鹽霧分布均勻，鹽霧試驗(yàn)箱（室）內(nèi)應(yīng)有適當(dāng)?shù)呐艢饪祝?yīng)防止排氣孔在箱（室）內(nèi)產(chǎn)生強(qiáng)氣流。

 濕熱箱（室）應(yīng)滿足GB 2423.3—81《電工電子產(chǎn)品基本環(huán)境試驗(yàn)規(guī)程 試驗(yàn)Ca：恒定濕熱試驗(yàn)方法》中的設(shè)備要求，即相對(duì)濕度為 溫度為40±2℃。

有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)應(yīng)該規(guī)定試驗(yàn)樣品在試驗(yàn)前的清潔方法，還應(yīng)該說明是否要去掉臨時(shí)涂封。清潔方法應(yīng)不影響鹽霧對(duì)試驗(yàn)樣品的腐蝕作用，試驗(yàn)前應(yīng)盡可能避免用手接觸試驗(yàn)樣品的表面。

在恢復(fù)處理前和（或）后，對(duì)試驗(yàn)樣品進(jìn)行外觀檢查，并按有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定對(duì)試驗(yàn)樣品進(jìn)行電性能和機(jī)械性能的檢測(cè)